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About this scholarly article

2018 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) - Tunability of Parasitic Channel in Gate-All-Around Stacked Nanosheets by Barraud, S.; Previtali, B.; Lapras, V.; Vizioz, C.; Hartmann, J.-M.; Martinie, S.; Lacord, J.; Casse, M.; Dourthe, L.; Loup, V.; Romano, G.; Rambal, N.; Chalupa, Z.; Bernier, N.; Audoit, G.; Jannaud, A.; Delaye, V.; Balan, V.; Rozeau, O.; Ernst, T.; Vinet, M. is a scholarly article available to read on EtoBox.

Author
Barraud, S.; Previtali, B.; Lapras, V.; Vizioz, C.; Hartmann, J.-M.; Martinie, S.; Lacord, J.; Casse, M.; Dourthe, L.; Loup, V.; Romano, G.; Rambal, N.; Chalupa, Z.; Bernier, N.; Audoit, G.; Jannaud, A.; Delaye, V.; Balan, V.; Rozeau, O.; Ernst, T.; Vinet, M.
Publisher
IEEE
Published
2018

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