Skip to content

Opening book details…

About this scholarly article

2006 Symposium on VLSI Technology, 2006. Digest of Technical Papers. - A Raised Source/Drain Extension pFET on Si [110] Realized by In-situ Doped Selective Epitaxy Technology by Wang, J.; Kikuchi, Y.; Tateshita, Y.; Kato, T.; Kataoka, T.; Hirano, T.; Nagano, K.; Ikuta, T.; Miyanami, Y.; Fujita, S.; Hiyama, S.; Yamamoto, R.; Kanda, S.; Yamakawa, S.; Kimura, T.; Kugimiya, K.; Yamagishi, N.; Tagawa, Y.; Kamide, Y.; Iwamoto, H.; Ohno, T.; Saito, M.; Ka, . is a scholarly article available to read on EtoBox.

Author
Wang, J.; Kikuchi, Y.; Tateshita, Y.; Kato, T.; Kataoka, T.; Hirano, T.; Nagano, K.; Ikuta, T.; Miyanami, Y.; Fujita, S.; Hiyama, S.; Yamamoto, R.; Kanda, S.; Yamakawa, S.; Kimura, T.; Kugimiya, K.; Yamagishi, N.; Tagawa, Y.; Kamide, Y.; Iwamoto, H.; Ohno, T.; Saito, M.; Ka, .
Publisher
IEEE
Published
2006
Language
EN

More by Wang, J.; Kikuchi, Y.; Tateshita, Y.; Kato, T.; Kataoka, T.; Hirano, T.; Nagano, K.; Ikuta, T.; Miyanami, Y.; Fujita, S.; Hiyama, S.; Yamamoto, R.; Kanda, S.; Yamakawa, S.; Kimura, T.; Kugimiya, K.; Yamagishi, N.; Tagawa, Y.; Kamide, Y.; Iwamoto, H.; Ohno, T.; Saito, M.; Ka, .

Browse all works by Wang, J.; Kikuchi, Y.; Tateshita, Y.; Kato, T.; Kataoka, T.; Hirano, T.; Nagano, K.; Ikuta, T.; Miyanami, Y.; Fujita, S.; Hiyama, S.; Yamamoto, R.; Kanda, S.; Yamakawa, S.; Kimura, T.; Kugimiya, K.; Yamagishi, N.; Tagawa, Y.; Kamide, Y.; Iwamoto, H.; Ohno, T.; Saito, M.; Ka, .