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Über den Thermischen Abbau von Siliciumdiimid Si(NH)~2~ by Oskar Glemser; Peter Naumann is a Chemistry article available to read on EtoBox.

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Mit 4 Abbildungcii Inlialtsiibersicht Ails SiC1, und flussigem NH, dargestelltes Si(NH), w i d bei pNIIs = 50 Torr abgebaut. Foigmde Abbaurrihe wurdc sichergestrllt \* +on c 600-C 1250 C 6 [ S i ( ~H ) 2 1 y ~x ~ 2 lSi3(NH)3K21y -iNH;\* 3 [Si2(NH)N21, 2 a-Si3N,. 41iRrr dem hexagonal ltristallisierenden a-Si3N,2) sind allc Verbindungcn riintgenainorph urid schr fcuchtiglicitsempfindlich. Wahrscheinlich liegen Hochpolymerr vor, mit eineln nichtperiodischm und nichtsyrnmptrischen Netzwwk von Si(NH),hzw. SiN,-Tctraedrrn . Summery Si(NH),, prepared from SiCI, and liquid ammonia, has been decomposed a t pEH, = 50 rnni Hg arcording t o ti [Si(NH),J, r2-400' 2 [Si,(NH),N,], + : ; ; + 3 [Si,(NH)N,], 1200 ' 2 a-Si,N,. With exception of hexagonal a-SgN,, all decomposition compounds are very hygroscopic amorphous substances. Probably they exist of high polymers with an unperiodic arid unsymmetrical cetwork of Si(NH),and SiN4-tctrahedrons, rcspcctivelj . Bei der thermischen Zersetzung von Siliciumdiimid Si( NU), bei 1200' C erhielten wir das hexagonal kristallisierende !x-Si,N42). Wir lieBen nun diese Reaktion -wie wir weiter unten naher ausfiihrenauch unter konstantem NH,-Zersetzungsdruck abla

Who reads Über den Thermischen Abbau von Siliciumdiimid Si(NH)~2~?

Author

Oskar Glemser; Peter Naumann

Publisher

John Wiley and Sons; Wiley (John Wiley & Sons); Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co.; Wiley (ISSN 0372-7874)

Published

1959

Language

DE

Field

Chemistry (Physical Sciences)