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微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用 by 顾长志等编著, Gu Changzhi deng bian zhu, 顾长志等编著, 顾长志 is a book available to read on EtoBox.
What is 微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用 about?
1 (p1): 第1章 光学曝光 1 (p1-1): 1.1光学曝光系统的基本组成 3 (p1-2): 1.2光学曝光的基本原理与特征 3 (p1-2-1): 1.2.1光学曝光的基本模式与原理 6 (p1-2-2): 1.2.2光学曝光的过程 17 (p1-2-3): 1.2.3分辨率增强技术 20 (p1-3): 1.3短波长光学曝光技术 21 (p1-3-1): 1.3.1深紫外与真空紫外曝光技术 21 (p1-3-2): 1.3.2极紫外曝光技术 22 (p1-3-3): 1.3.3 X射线曝光技术 22 (p1-3-4): 1.3.4 LIGA加工技术 23 (p1-4): 1.4光学曝光加工纳米结构 23 (p1-4-1): 1.4.1泊松亮斑纳米曝光技术 27 (p1-4-2): 1.4.2表面等离激元纳米曝光技术 29 (p1-4-3): 1.4.3基于双层图形技术的纳米加工 30 (p1-5): 1.5光学曝光加工三维微纳结构 31 (p1-5-1): 1.5.1灰度曝光技术 33 (p1-5-2): 1.5.2基于欠曝光的三维曝光技术 34 (p1-5-3): 1.5.3基于菲涅耳衍射与邻近效应的三维曝光技术 35 (p1-6): 参考文献 38 (p2): 第2章 电子束曝光技术 39 (p2-1): 2.1电子束曝光系统组成 40 (p2-1-1): 2.1.1电子枪 41 (p2-1-2): 2.1.2透镜系统 42 (p2-1-3): 2.1.3电子束偏转系统 43 (p2-2): 2.2电子束曝光系统的分类 43 (p2-2-1): 2.2.1扫描模式 44 (p2-2-2): 2.2.2束形成 46 (p2-3): 2.3电子束抗蚀剂 46 (p2-3-1): 2.3.1电子束抗蚀剂的性能指标 47 (p2-3-2): 2.3.2电子束抗蚀剂制作图形工艺 49 (p2-3-3): 2.3.3常用电子束抗蚀剂及其工艺过程 51 (p2-3-4): 2.3.4特殊的显影工艺 54 (p2-3-5): 2.3.5多层抗蚀剂工艺 56 (p2-3-6): 2.3.6理想抗蚀剂剖面的加工 57 (p2-4): 2.4电子束与固体的相互作用及邻近效应 57 (p2-4-1): 2.4.1电子束与固体的相互作用 59 (p2-4-2): 2.4.2邻近效应及校正 62 (p2-5): 2.5充电效应及解决方法 63 (p2-5-1): 2.5.1引入导电膜 65 (p2-5-2): 2.5.2变压电子束曝光系统 65 (p2-5-3): 2.5.3临界能量电子束曝光 66 (p2-6): 2.6三维结构的制备 66 (p2-6-1): 2.6.1平整衬底上三维结构的加工 69 (p2-6-2): 2.6.2三维衬底上图形的制备 70 (p2
- Author
- 顾长志等编著, Gu Changzhi deng bian zhu, 顾长志等编著, 顾长志
- Publisher
- 北京:科学出版社
- Published
- 2013
- Language
- ZH
- ISBN
- 9787030378255
- Subjects
- Technology, Stem
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