Skip to content

Opening book details…

About this scholarly article

SPIE Proceedings [SPIE SPIE 31st International Symposium on Advanced Lithography - San Jose, CA (Sunday 19 February 2006)] Emerging Lithographic Technologies X - Multilayer optics with spectral purity layers for the EUV wavelength range by Louis, E.; Lercel, Michael J.; van de Kruijs, R. W .E.; Yakshin, A. E.; van der Westen, S. Alonso; Bijkerk, F.; van Herpen, M. M. J. W.; Klunder, D. J. W.; Bakker, L.; Enkisch, H.; Müllender, S.; Richter, M.; Banine, V. is a scholarly article available to read on EtoBox.

Author
Louis, E.; Lercel, Michael J.; van de Kruijs, R. W .E.; Yakshin, A. E.; van der Westen, S. Alonso; Bijkerk, F.; van Herpen, M. M. J. W.; Klunder, D. J. W.; Bakker, L.; Enkisch, H.; Müllender, S.; Richter, M.; Banine, V.
Publisher
SPIE
Published
2006

More by Louis, E.; Lercel, Michael J.; van de Kruijs, R. W .E.; Yakshin, A. E.; van der Westen, S. Alonso; Bijkerk, F.; van Herpen, M. M. J. W.; Klunder, D. J. W.; Bakker, L.; Enkisch, H.; Müllender, S.; Richter, M.; Banine, V.

Browse all works by Louis, E.; Lercel, Michael J.; van de Kruijs, R. W .E.; Yakshin, A. E.; van der Westen, S. Alonso; Bijkerk, F.; van Herpen, M. M. J. W.; Klunder, D. J. W.; Bakker, L.; Enkisch, H.; Müllender, S.; Richter, M.; Banine, V.