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脉冲激光沉积动力学与玻璃基薄膜 = Pulsed laser deposition dynamics and thin film deposited onto glass by 张端明,赵修建,李智华等著, Zhang Duanming ... [et al.] zhu, 张端明 [and others] 著, 张端明, 张端明[等]著, 张端明 is a book available to read on EtoBox.

What is 脉冲激光沉积动力学与玻璃基薄膜 = Pulsed laser deposition dynamics and thin film deposited onto glass about?

3 (p1): 上篇 脉冲激光沉积动力学第1章 薄膜材料与制备方法引论3 (p2): 1.1 薄膜材料的特点4 (p3): 1.2 常见的薄膜材料4 (p4): 1.2.1 结构薄膜材料6 (p5): 1.2.2 功能薄膜材料9 (p6): 1.3 铁电薄膜材料10 (p7): 1.3.1 铁电薄膜材料的结构、性能与应用12 (p8): 1.3.2 铁电薄膜制备13 (p9): 1.4 钽铌酸钾铁电薄膜材料14 (p10): 1.4.1 KTN材料的结构与相变15 (p11): 1.4.2 KTN材料的介电与铁电性能16 (p12): 1.4.3 KTN薄膜的制备、实验研究现状及发展趋势21 (p13): 1.5 常见的薄膜制备方法22 (p14): 1.5.1 真空蒸发沉积22 (p15): 1.5.2 分子束外延法23 (p16): 1.5.3 溶胶-凝胶法24 (p17): 1.6 溅射法26 (p18): 参考文献32 (p19): 第2章 薄膜的缺陷和界面的实验表征32 (p20): 2.1 薄膜的缺陷32 (p21): 2.1.1 点缺陷34 (p22): 2.1.2 线缺陷37 (p23): 2.2 薄膜的界面与薄膜间的相互扩散38 (p24): 2.2.1 薄膜与衬底间的界面39 (p25): 2.2.2 不同材料薄膜之间的界面41 (p26): 2.3 常见的实验表征方法43 (p27): 2.4 X射线衍射分析46 (p28): 2.5 扫描隧道显微镜52 (p29): 2.6 扫描近场光学显微镜55 (p30): 参考文献60 (p31): 第3章 脉冲激光沉积技术及其Z-L模型一般描述60 (p32): 3.1 PLD技术发展过程63 (p33): 3.2 PLD技术制备薄膜的实验工艺68 (p34): 3.3 PLD技术制备过程的一般描述68 (p35): 3.3.1 PLD技术的物理图像的一般描述69 (p36): 3.3.2 激光与靶材的相互作用72 (p37): 3.3.3 等离子体膨胀74 (p38): 3.3.4 衬底上沉积成膜74 (p39): 3.4 PLD技术的Z-L模型简介75 (p40): 3.4.1 脉冲激光烧蚀靶材过程的描述77 (p41): 3.4.2 等离子体的空间膨胀过程研究78 (p42): 3.4.3 薄膜沉积特性研究78 (p43): 3.4.4 等离子体冲击波模型80 (p44): 参考文献84 (p45): 第4章 激光烧蚀的基本模型与含热源项模型85 (p46): 4.1 激光烧蚀产生的烧蚀面的位置演化规律85 (p47): 4.1.1 烧蚀过程的基本物理图像86 (p48): 4.1.2 烧蚀面的位置演化规律88 (p49): 4.2 烧蚀方程的导热方程和定解条件88 (p50): 4.2

Author

张端明,赵修建,李智华等著, Zhang Duanming ... [et al.] zhu, 张端明 [and others] 著, 张端明, 张端明[等]著, 张端明

Publisher

武汉:湖北科学技术出版社

Published

2006

Language

ZH

ISBN

9787535236654

Subjects

Engineering, Stem