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真空镀膜技术 Zhen kong du mo ji shu by 张以忱等编著, 张以忱等编著, 张以忱, 张以忱,等 is a book available to read on EtoBox.

What is 真空镀膜技术 Zhen kong du mo ji shu about?

1 (p1): 1 薄膜与表面技术基础理论 1 (p2): 1.1 概述 1 (p3): 1.2 固体表面介绍 1 (p4): 1.2.1 固体材料 3 (p5): 1.2.2 固体表面与界面的基本概念 4 (p6): 1.2.3 固体表面与界面的区别 4 (p7): 1.3 表面晶体学 4 (p8): 1.3.1 金属薄膜的晶体结构 6 (p9): 1.3.2 理想的表面结构 7 (p10): 1.3.3 表面与体内的差异 13 (p11): 1.3.4 清洁表面结构 13 (p12): 1.3.5 实际表面结构 18 (p13): 1.4 表面特征(热)力学 18 (p14): 1.4.1 表面力 21 (p15): 1.4.2 表面张力与表面自由能 24 (p16): 1.4.3 表面扩散 25 (p17): 1.5 表面电子学 25 (p18): 1.5.1 金属薄膜中的电迁移现象 26 (p19): 1.5.2 增强薄膜抗电迁移能力的措施 27 (p20): 1.6 界面与薄膜附着 27 (p21): 1.6.1 界面层 28 (p22): 1.6.2 附着及附着力 31 (p23): 1.6.3 固体材料表面能对附着的影响 32 (p24): 1.6.4 表面、界面和薄膜的应力 39 (p25): 1.6.5 增强薄膜附着力的方法 41 (p26): 1.7 金属表面的腐蚀 41 (p27): 1.7.1 电化学腐蚀 43 (p28): 1.7.2 金属的钝化 43 (p29): 1.7.3 全面腐蚀 44 (p30): 1.7.4 局部腐蚀 51 (p31): 2 真空蒸发镀膜 51 (p32): 2.1 概述 51 (p33): 2.2 真空蒸发镀膜原理 51 (p34): 2.2.1 真空蒸发镀膜的物理过程 52 (p35): 2.2.2 蒸发过程中的真空条件 54 (p36): 2.2.3 镀膜过程中的蒸发条件 62 (p37): 2.2.4 残余气体对膜层的影响 63 (p38): 2.2.5 蒸气粒子在基片上的沉积 65 (p39): 2.3 蒸发源 65 (p40): 2.3.1 电阻加热式蒸发源 70 (p41): 2.3.2 电子枪加热蒸发源 75 (p42): 2.3.3 感应加热式蒸发源 77 (p43): 2.3.4 空心热阴极电子束蒸发源 78 (p44): 2.3.5 激光加热蒸发源 79 (p45): 2.3.6 电弧加热蒸发源 79 (p46): 2.4 特殊蒸镀技术 79 (p47): 2.4.1 闪蒸蒸镀法 80 (p48): 2.4.2 多蒸发源蒸镀法 80 (p49): 2.4.3 反应蒸镀法 81 (p50): 2.4.4 三温度蒸镀法 82 (p51): 3 真空溅射镀膜 82 (p52): 3.1 溅

Author

张以忱等编著, 张以忱等编著, 张以忱, 张以忱,等

Publisher

北京:冶金工业出版社

Published

2009

Language

ZH

ISBN

9787502450205