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Entwicklung Und Optimierung Von Prozeßkomponenten Zur Ionenunterstützten Abscheidung Bei Pvd-verfahren (ipa-iao - Forschung Und Praxis) by Dipl.-Ing. Walter Olbrich (auth.) is a engineering available to read on EtoBox.
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Die physikalische Abscheidung aus der Gasphase (Physical Vapor Deposition, PVD) ist ein junges Fertigungsverfahren der Obertliichentechnik. Mit PVD-Verfahren lassen sich diinne Schichten im Bereich einiger Nanometer bis zu einigen Mikrometem aufvielen Werkstiicken erzeugen. Durch die Beschichtung lassen sich gezielt die Eigenschaften der Werkstiickober flache veriindem. Die Oberflache dient bei allen Bauteilen als Schnittstelle zu ihrer Umwelt und wird folglich vielfliltig beansprucht. Sie mull
Who reads Entwicklung Und Optimierung Von Prozeßkomponenten Zur Ionenunterstützten Abscheidung Bei Pvd-verfahren (ipa-iao - Forschung Und Praxis)?
It is typically read by working professionals who need an authoritative practice reference.
Common subject areas: medicine, law, business, engineering.
- Author
- Dipl.-Ing. Walter Olbrich (auth.)
- Publisher
- Springer-Verlag Berlin Heidelberg
- Published
- 1994
- Language
- DE
- ISBN
- 9783540585114
- Category
- engineering
- Subjects
- Engineering, Management, Engineering (General)
- Updated
- 2026-03-25
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