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陶瓷表面技术 by 周元康,孙丽华,李晔编著(贵州大学机械学院), Zhou Yuankang, Sun Lihua, Li Ye bian zhu, 周元康, 孙丽华, 李晔编著, 周元康, 孙丽华, 李晔 is a book available to read on EtoBox.

What is 陶瓷表面技术 about?

1 (p1): 第1章 概论1 (p2): 1.1 陶瓷的种类及性能5 (p3): 1.2 陶瓷表面技术概况7 (p4): 参考文献8 (p5): 第2章 陶瓷PVD8 (p6): 2.1 PVD的种类及特点12 (p7): 2.2 真空蒸镀12 (p8): 2.2.1 真空蒸镀的原理与特征14 (p9): 2.2.2 真空蒸镀的设备及工艺15 (p10): 2.2.3 蒸发源17 (p11): 2.2.4 蒸镀膜的性能标准及测试17 (p12): 2.2.5 陶瓷反应性蒸镀21 (p13): 2.3 陶瓷激光PVD22 (p14): 2.3.1 CO2激光蒸镀陶瓷膜的性能和特点26 (p15): 2.3.2 激光蒸镀与N离子辐射并用29 (p16): 2.3.3 陶瓷激光蒸镀的应用33 (p17): 2.4 陶瓷离子PVD33 (p18): 2.4.1 离子镀的原理及特点34 (p19): 2.4.2 HCD法的工作原理及特点38 (p20): 2.4.3 HCD-ARE法的工作与应用40 (p21): 2.4.4 阴极多弧离子镀43 (p22): 2.4.5 陶瓷离子镀的应用实例50 (p23): 2.4.6 陶瓷离子镀的新进展52 (p24): 2.5 溅射成膜52 (p25): 2.5.1 溅射原理及特点52 (p26): 2.5.2 溅射方式54 (p27): 2.5.3 溅射设备与工艺59 (p28): 2.5.4 陶瓷溅射技术的应用61 (p29): 参考文献62 (p30): 第3章 陶瓷CVD62 (p31): 3.1 CVD的基本原理63 (p32): 3.1.1 CVD的基本过程64 (p33): 3.1.2 CVD的化学反应形态66 (p34): 3.2 CVD的工艺与装置66 (p35): 3.2.1 基本工艺68 (p36): 3.2.2 典型的CVD装置74 (p37): 3.3 CVD的成膜过程74 (p38): 3.3.1 CVD的成膜条件78 (p39): 3.3.2 各种陶瓷CVD膜层的种类及其性能85 (p40): 3.4 陶瓷CVD的应用85 (p41): 3.4.1 热CVD陶瓷膜的应用90 (p42): 3.4.2 陶瓷等离子(P)CVD的应用90 (p43): 3.4.3 陶瓷激光(L)CVD的应用90 (p44): 3.5 CVD技术的发展展望91 (p45): 参考文献92 (p46): 第4章 能束表面陶瓷合金化和熔覆92 (p47): 4.1 激光、电子束表面合金化与熔覆过程93 (p48): 4.2 陶瓷的激光合金化与熔覆93 (p49): 4.2.1 陶瓷激光合金化104 (p50): 4.2.2 陶瓷激光熔覆108 (p51): 4.2.3 陶瓷激光熔覆的应用及其研究111 (p52): 4.3

Author

周元康,孙丽华,李晔编著(贵州大学机械学院), Zhou Yuankang, Sun Lihua, Li Ye bian zhu, 周元康, 孙丽华, 李晔编著, 周元康, 孙丽华, 李晔

Publisher

北京:国防工业出版社

Published

2007

Language

ZH

ISBN

9787118047530

Subjects

Engineering, Technology, Stem